今日问题：“芯片光刻工程师”的工作环境要求是？

本题选项：

A．高温通风实验室

B．无尘恒温车间

正确答案：无尘恒温车间

出题单位：答答星球

支付宝蚂蚁新村小课堂 - 2025年07月14日 - 答案

答案解析：光刻是芯片制造过程中的关键步骤，对环境的要求非常高。微小的灰尘和温度的波动都会影响芯片的成品率和性能，因此需要在无尘恒温车间进行。此外，员工也需要穿着特殊的工作服，以维持零粉尘的工作环境。

光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。

一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。

一、温度和湿度

光刻胶生产需要在一定的温度和湿度条件下进行。通常来说，温度应控制在20℃到25℃之间，湿度应控制在50%到60%之间。这样可以保证光刻胶的性能不受影响，从而保证产品质量。

二、洁净度

光刻胶生产需要在洁净的环境下进行。因为光刻胶很容易受到灰尘和杂质的影响，从而导致产品质量下降。因此，车间环境必须保持干净，特别是在生产过程中要注意防尘。

三、光照条件

光刻胶生产需要在一定的光照条件下进行，通常使用紫外线照射。因此，车间内必须有光照设备，并且必须保证光源的稳定性和光照强度。

四、通风系统

光刻胶生产需要在通风良好的环境下进行，以防止有害气体的积聚。因此，车间内必须安装通风系统，并保证其正常运行。

总之，光刻胶生产对车间环境要求比较高，必须保证温度、湿度、洁净度、光照条件和通风系统等因素的稳定性和正常运行。只有这样，才能保证光刻胶的性能和产品质量。